半導體清洗超純水設備制備工藝：

1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統工藝) 
 

2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥16MΩ.CM）(工藝)

3、預處理→反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(工藝) 

半導體清洗超純水設備應用場合：

1.電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗 ☆電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸  鹽配液 
2.顯像管和陰極射線管生產、配料用純水 
3.黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水 
4.液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液 
5.晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
6.集成電路生產中高純水清洗硅片 
7.半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

8.LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏 
9.高品質顯像管、螢光粉生產

10.半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗 
11.超純材料和超純化學試劑、超純化工材料 
12.實驗室和中試車間

13.汽車、家電表面拋光處理

14.光電產品、其他高科技精微產品

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