單 價:電議
產品/服務:EDI設備/超純水設備
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最后更新:2013-01-30 04:02
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>CEDI全名為Continuous Electrodeionization(電解式連續去離子法)> 其主要內用途乃針對半導體,電子,電廠,制藥或實驗室等高科技產業提供高純度之超純水需求,該科技自1987年由IONPURE研發團隊發表問世以來至今已超過15年的歷史,其研發成果及多項世界專利技術不但能提供最佳產品品質,并以注冊之專利名稱CEDI,使其研發成果成就巿場者地位.且聞名于世界成就其巿場者地位. CEDI電解式連續去離子膜塊組之功能與傳統的混床離子交換樹脂相似,一般皆使用于RO (逆滲透)系統后去除水中微量的離子,但該系統不需要停機再生,因此也不需使用酸堿再生也沒有廢水排放的問題.將水質之電阻值由0.05~0.1megohm-cm提升至15~18megohm-cm. ![]() CEDI 原理 (1)原水進入系統后將分流至產品水及濃縮水層,水流流向將與膜層表面平行 (2)專利樹脂將與原水的離子作交換. (3) 電吸力將迫使交換的陽離子透過陽離子膜.反之, 陰離子透過陰離子膜 (4) 陽離子滲透膜將鈉離子Na+之陽離子排出產水層,并防止陰離子由另一側濃水層進入產水層. (5) 離子滲透膜將氯離子CL-之陰離子排出產水層,并防止陽離子由另一側濃水層進入產水層. (6) 濃縮水層排出含離子之濃縮水 (7) 產水排出出水端 ![]() 超純水最佳選擇CEDI Ionpure IPLX可提供﹕LX膜塊主體﹐電源供應原件﹐DC電源供應器﹐DC電源顯示面板及管路安裝配件﹔該膜塊通常安裝與RO純水設備之后并提供下列優勢。 *最穩定及符合工業級需求之最佳原件 *百分百避免漏水之運轉設計 *機簡易之配管及回路設計需求 *提供完整之電源供應原件 *可提供單一膜塊獨立電源供應 *可顯示個別膜塊所消耗之電壓及安培數 *膜塊設計最高可承受工作壓力100psi *膜塊設計最高可承受工作溫度45℃(113℉) *高溫專用膜塊最高可承受工作溫度80℃(176℉) *安全毋需停機再生﹐影響制程 *毋需使用酸堿再生也無廢水排放 ![]() IONPURE 膜塊之各項優勢 1. 毋需使用任何化學藥劑 2. 毋需使用鹽水注入泵浦及濃水循環泵浦 3. 系統不會產生有害氣體 4. 濃水可百分百回收利用 5. 最佳系統溫度度 6. 有效降低廠務人員維護工時 7. 大幅降低安裝及維護成本 8. 符合新時代環保及工藝安全需要 |
產品型號 | IP-LXM 4X | IP-LXM 10X | IP-LXM 18X | IP-LXM 24X | IP-LXM30X |
最小產品水量min.gpm( m3/hr) | 1.0(0.22) | 2.5(0.55) | 4.5(1.1)_ | 6.3(1.4) | 7.5(1.65) |
一般產品水量min.gpm( m3/hr) | 2.0(0.44) | 5.0(1.1) | 9.0(2.0) | 12.5(2.8) | 15.0(3.3) |
最大產品水量min.gpm( m3/hr) | 3.0(0.67) | 7.5(1.65) | 13.5(3.1) | 18.8(4.2) | 22.5(4.95) |
一般回收率(%) | 90~95% | 90~95% | 90~95% | 90~95% | 90~95% |
最大進水壓力(bar) | 100(7) | 100(7) | 100(7) | 100(7) | 100(7) |
一般流量時之壓損psi(bar) | 16-20(1.1-1.4) | 16-20(1.1-1.4) | 16-20(1.1-1.4) | 16-20(1.1-1.4) | 16-20(1.1-1.4) |
最高進水溫度 | 113(45) | 113(45) | 113(45) | 113(45) | 113(45) |
尺寸 L | 257.0MM(10.13") | 346.1MM(13.63") | 464.0MM(18.3") | 553.2MM(21.78") | 665.3MM(26.19") |
尺寸 C | 146.7MM(5.78") | 235.6MM(9.28") | 353.9MM(13.93") | 442.6MM(17.43") | 531.1MM(20.92") |
運輸重量lbs(kg) | 150(68) | 200(91) | 220(100) | 2250(113) | 270(123) |
工作重量(kg) | 100(45) | 150(68) | 170(77) | 200(91) | 220(100) |
進水當量電導率(包含CO2與Si) | <40 μs/cm |
溫度 | 50 - 113 °F(10 - 45°C) |
入水壓力 | 20 - 100 psi (1.4 - 7 bar) |
氯(Cl2) | <0.02 ppm |
鐵(Fe) | <0.01 ppm |
錳(Mn) | <0.01 ppm |
硫化物(S-) | <0.01 ppm |
pH | 4 - 11 |
總硬度(CaCO3) | <1.0 ppm |
TOC(C) | <0.5 ppm |
硅(SiO2) | <1.0 ppm |
給水 | 或二級反滲透純水,電導率為1-40μs/cm; |
pH | 最佳6.0—8.0; |
溫度 | 5-35℃(60-95℉); |
進水壓力 | 最大為4bar(60psi),濃/極水的入口壓力一般低于產品水的出口壓力0.3-0.5kgf/cm2 |
硬度(以CaCO3計) | 最大為10.0 ppm; |
有機物 | 最大為0.5 ppm TOC, 建議值為零; |
氧化劑 | 最大為0.05 ppm(Cl2),0.02 ppm(O3),建議兩者都為零; |
變價金屬 | 最大為0.01 ppm (Fe、Mn); |
二氧化硅 | 最大為0.5 ppm ; |
二氧化碳CO2的總量 | 最大為10.0 ppm二氧化碳含量和pH值將明顯影響產品水電阻率。 |
序號 | 水質項目 | 高純水指標 | 二級高純水指標 |
1 | 電阻率(25℃)MΩ·cm | ≥15 | ≥10 |
2 | 電導率,μs/cm | 0.05 | 0.1 |
3 | PH值 | 6.8~7.2 | 6.6~7.4 |
4 | 細菌總數,個/mL | <3 | <9 |
5 | 微粒(直徑>0.5μm,粒/mL) | <150 | <300 |
6 | 二氧化硅 | <10 | <20 |
7 | 有機物(以COD計) | <0.3 | <0.5 |
8 | 鈉 Na | <0.5 | <2 |
9 | 鐵 Fe | <1 | <2 |
10 | 銅 Cu | <0.5 | <1 |
11 | 鈣 Ca | <1 | <3 |
12 | 鎂 Mg | <0.2 | <1 |
13 | 鋅 Zn | <0.5 | <1 |
14 | 錳 Mn | <0.2 | <0.5 |
超純水處理系統常見故障及排除 | ||
故障現象 | 可能原因 | 排除手段 |
進水壓力低或進水量不足 | 超濾預處理堵塞 | 清洗或更換過濾材料或裝置 |
超濾進水泵壓力不夠 | 更換更大的增壓泵 | |
管徑偏小 | 換管徑更大的管 | |
閥門故障 | 更換閥門 | |
產水量下降超過初始穩定產水量的20% | 超濾膜被污染 | 進行化學清洗和加藥殺菌。 |
跨膜壓差太小 | 增大進水壓力,但不得超過0.3Mpa.且TMP小于.2Mpa. | |
原液水質惡化 |
改善前處理,使之達到超濾進水要求 | |
原液溫度降低 |
升高原液溫度或加大進水壓力但不得超過0.3Mpa.且TMP小于0.2Mpa。 | |
預處理供水不足 |
檢查及改進預處理 | |
維護不當 |
加強維護,并更換損壞設備 | |
產水水質不達標或截留效果降低 | 濃差極化 |
增大濃水回流量,加速膜管內流速 |
斷絲 |
查找出斷絲處,并用環氧樹脂進行修補;或更換超濾膜。 | |
二次污染 | 改進出水后處理 | |
原水水質惡化 |
改善前處理,使之達到超濾進水要求 | |
過濾精度選擇有誤 |
更換適合的過濾精度的膜 | |
壓力表壓力突然升高 | 氣動蝶閥失靈 |
檢查氣動蝶閥 或控制電路的故障 |
原水泵不啟動 | 進水壓力過高 |
壓力保護開關跳閘,調節超濾主機進水蝶閥,使進水壓力小于0.3Mpa. |
超濾水箱水位過高 |
等產品水箱水位下降到正常后才能啟動 | |
超濾原水箱水位過低 |
等原水箱水位升高到正常后才能啟動 | |
反洗泵不啟動 | 反洗進水壓力過高 |
壓力保護開關跳閘,調節反洗進水蝶閥,使進水壓力小于0.2Mpa. |
產品水位過低 |
等產品水箱水位上升后才能啟動 |