型號:Phantom III反應離子刻蝕機
設備主要性能指標:
1. 適于研發(fā)、實驗室、芯片失效分析和小批量生產(chǎn)
2. 采用氟基、氯基、溴基、氧基化學,適合刻蝕鋁、砷化鎵、鈦、銅、鉻、硅、氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、聚酰亞胺、環(huán)氧樹脂、石墨、鉬、鉭、鎢等薄膜(部分材料需選配預真空腔室)
3. 可使用的工藝氣體:Cl2、BCl3、SiCl4、HBr、NF3、SF6、CF4、CHF3、O2等(部分工藝氣體需選配預真空腔室)
4. 基片臺尺寸為200mm或300mm
5. 基片尺寸可達300mm,兼容更小尺寸的基片
6. 標配功率600W、頻率13.56MHz的射頻等離子激發(fā)源(電容源),含自動阻抗匹配網(wǎng)絡
7. 從反應腔室頂蓋處直接裝卸基片
8. 配備工藝壓力下游自動控制系統(tǒng)
9. 標配4路,可選7路質(zhì)量流量計控制的工藝氣路,采用超潔凈管路及VCR接頭
10. 基于計算機的配方式工藝控制系統(tǒng),彩色觸摸屏操控
11. (可選)增加功率600W或1250W、頻率13.56MHz的ICP高密度等離子激發(fā)源(電感源),改善刻蝕速率、刻蝕選擇比、形貌控制、均勻性并且減少離子損傷
12. (可選)基片溫度控制-冷卻或加熱
13. (可選)在線刻蝕終點監(jiān)測系統(tǒng)EPD
14. (可選)油泵、干泵及分子泵
15. (可選)靜電卡盤基片臺
16. (可選)預真空鎖腔室
17. (可選)ICP電感應耦合等離子源
同時,本公司還可以提供美國Trion公司用于批量生產(chǎn)型的Titan型和Oracle III型多腔室型生產(chǎn)型的等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PECVD和反應離子刻蝕系統(tǒng)RIE(含ICP、HDICP、深硅刻蝕等)。
【商家簡介】北京創(chuàng)世杰科技發(fā)展有限公司2001年成立于北京,主要是致力于半導體電子產(chǎn)品制造及測試設備、真空產(chǎn)品等業(yè)務,為廣大的中國客戶提供國際上先進的產(chǎn)品和服務。公司的經(jīng)營哲學為:依靠經(jīng)驗豐富的專業(yè)團隊,為中國市場提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品服務及技術(shù)支援,全力維護與客戶及供應商的長期合作伙伴關(guān)系。主要產(chǎn)品:1)英國Dage公司Dage4000/4000plus/Dage5000推拉力測試機(鍵合力測試儀、拉力剪切力測試儀)2)德國YXLON公司(原Feinfocus)X光無損檢測系統(tǒng)/3D CT X光無損檢測系統(tǒng)(型號:Y.CO...