型號:Apollo型和Gemini型等離子去膠機
該兩種型號的去膠機是一種低損傷的去膠系統,美國Trion公司通過這兩套價格低廉、緊湊型的多功能系統極大降低了等離子去膠機的成本,使得更適合于實驗室和中小批量生產的需要。
Gemini和Apollo型等離子去膠機黎勇ICP(電感應耦合等離子體)、微波和射頻偏置功率,可以再低溫條件下將難于消除的光刻膠去除。根據應用要求,每套系統可以結合SST-Lightning微波源(即可靠又沒有任何長江的微波調諧問題)或ICP技術。
特點:
1)刻蝕速率高達6微米/分
2)產能高
3)等離子損傷低
4)自動匹配網絡
5)適用于100mm到300mm基片
6)設備占地尺寸小
7)價格具有好的競爭力
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